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DQ-IBF1200离子束设备

应用领域:高精度镜头元件、高能激光元件、相位板、航空航天领域光学元件

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  • 产品描述
  • 设备技术参数

    高精度光学元件加工解决方案
    加工曲面类型平面、球面、同轴及离轴非球面、自由曲面(选配)
    加工轨迹光栅轨迹
    加工口径30-1200mm
    加工工件外形圆形、椭圆形、矩形及任意多边形
    加工材料K9(BK7)、熔石英、ULE、微晶、硅、镍磷合金、铝合金等
    加工精度
    面形精度RMS≤2nm,表面粗糙度Rq≤1nm
    设备特点具备多种直径离子源装置可灵活更换,适合中小口径常规非球面及自由曲面超精密加工

     

    • 设备配置

    离子源模组
    2、5、10、20、30、37mm束径射频离子源(40mm以上可定制)
    真空泵组德国进口
    基本结构三轴真空运动系统

     

    • 软件配置

    SLAM
    对上述加工功能均有效支持,且均可在云端实现远程计算功能

     

    • 应用领域

    高精度镜头元件、高能激光元件、相位板、航空航天领域光学元件

     

    • 离子束案例

     

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